Компания Intel достигла значительных успехом в работе с литографической системой ASML High-NA, использующей ультрафиолетовое излучение. В целях тестирования машина была применена к кремниевой пластине, обработанной светочувствительными химическими веществами для получения рисунка схемы. Система станет частью первой литографической машины компании Inter, которая сейчас находится в процессе создания. Испытания прошли успешно, и теперь машина считается работоспособной, хотя еще не достигла максимума своей производительности.
Литография на основе ультрафиолетового излучения - перспективное направление, на которое собираются перейти крупнейшие производители микрочипов, включая Intel, Samsung и TSMC. В частности, Intel намерена использовать эту систему для грядущего Intel 14A.
Важно отметить, что источник света является одним из самых сложных элементов любого литографического инструмента, использующего экстремальный ультрафиолет (EUV).
